申请号：CN202310788472.7
分类号：C02F1/48
分类：水、废水、污水或污泥的处理
公开（公告）号：CN116924531B
公开（公告）日：2024年07月02日
发明名称：一种半导体超纯水循环使用的研磨废水处理工艺所使用的设备
发明人：张永健;谢海;孙佳君;张家晖
申请人： 高频(北京)科技股份有限公司
申请日：2023年06月30日
代理机构： 上海汇知丞企知识产权代理有限公司
代理人：胡志凤
地址：100176 北京市通州区北京经济技术开发区科创十四街99号33幢D栋6层601室
摘要：--
二、法律状态
申请状态公告日：2024年07月02日
法律状态：授权